低温恒温循环槽MD20-4低温恒温循环槽MD20-4可直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制，半导体扩散炉扩散工艺控制，低温测量
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低温恒温槽MD10-20低温恒温水槽提供热冷受控，温度均匀恒定的场源，可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，整个量程范围的温度精确控制，恒温波动度±0.05
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低温恒温循环装置JMYZ-2-A主要有压缩机、冷凝器、节流阀、换热器、循环泵、加热器等部件组成，可以直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，各档制冷功率输出，满足常规实验室小制冷量输出的和设备需求，广泛用于石油、化工、电子仪表、物理、化学、生物工程、医药卫生、生命科学、轻工食品、物性测试及化学分析等研究部门、高等院校、企业质检及生产部门，为用户工作时提供一个冷热受控，温度均匀恒定的液体环境，对试验样品或生产的产品在槽内直接进行恒定温度试验或测试，如对旋转蒸发仪、反应釜、全自动合成仪器、萃取以及冷凝装置的控温。
加热制冷浴槽MD30-12，容积12L，控温范围-30℃～90℃，用于石油化工、制药及半导体工业等领域低温测量与检定，样品保存等浸入式实验或外循环应用
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加热制冷浴槽MD30-8主要有压缩机、冷凝器、节流阀、换热器、循环泵、加热器等几大件组成，可以直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，用于石油化工、制药及半导体工业等领域低温测量与检定，样品保存等浸入式实验或外循环应用。
低温恒温槽MD10-20提供热冷受控，温度均匀恒定的场源，可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，整个量程范围的温度精确控制，恒温波动度±0.05℃。
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低温恒温槽MD10-4，容积4.5L，控温范围-10℃～90℃，温度波动度0.05℃，样品保存、分析测试、石油、化工、电子仪表、生物工程、医药卫生、生命科学、轻工食品、物性测试及化学分析等行业等浸入式或外循环应用
详细内容>>冷却水循环机JM11BK，制冷量1100W，为用户提供恒温，恒压，恒流的液体环境，精密恒温控制系统，整个量程范围的温度精确可控，适用于5℃～35℃化工、制药等化学反应工艺过程控制等.
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低温恒温循环槽MD20-12可直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制，半导体扩散炉扩散工艺控制，低温测量和检定，样品保存等浸入式或外循环应用
详细内容>>低温恒温循环槽MD20-8可直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制，半导体扩散炉扩散工艺控制，低温测量和检定，样品保存等浸入式或外循环应用
详细内容>>低温恒温循环槽MD20-4可直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制，半导体扩散炉扩散工艺控制，低温测量和检定，样品保存等浸入式或外循环应用
详细内容>>低温恒温循环槽MD20-20，容积20L，控温范围：-20℃～90℃（最高温度100℃），制冷系统采用思科普压缩机，可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，用于-20℃的样品保存、分析
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低温恒温槽MD10-20，容积20L，控温范围-5℃～90℃，最高温度100℃，作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，用于低温测量和检定，样品保存等浸入式或外循环使用
详细内容>>低温恒温循环槽MD20-12，容积12L，控温范围-20℃～90℃，最高温度100℃，用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制，半导体扩散炉扩散工艺控制，低温测量和检定，样品保存等浸入式或外循环应用
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低温恒温水槽MD5-4，容积4.5L，控温范围-5℃～90℃，温度波动度0.05℃，提供热冷受控，温度均匀恒定的场源，用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制，半导体扩散炉扩散工艺控制，低温测量和检定，样品保存等浸入式或外循环应用
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